Zakres pomiarowy:
0,5 mm do 175 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC:
(0,06 + 0,0007·L) µm L – wielkość mierzona (mm).
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-1-LW-AK-01.

Zakres pomiarowy:
0,8 mm do 50 mm, 50 mm do 100 mm , 100 mm do 200 mm, 200 mm do 300 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC:
1,3 µm, 1,4 µm, 1,5 µm, 1,9 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-2-LW-AK-01 - średnica pierścienia.

Zakres pomiarowy:
1 mm do 100 mm, 100 mm do 200 mm, 200 mm do 300 mm .
Niepewność pomiaru dla CMC:
3,0 µm, 3,1 µm, 3,4 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-2-LW-AK-02 - średnica podziałowa.

Zakres pomiarowy:
2,4 mm do 100 mm, 100 mm do 200 mm, 200 mm do 300 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
3,1 µm, 3,2 µm, 3,5 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-2-LW-AK-03 - średnica podziałowa.

Zakres pomiarowy:
4 mm do 100 mm, 100 mm do 200 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
5,0 µm, 6,7 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-2-LW-AK-04 - średnica podziałowa.

Zakres pomiarowy:
4 mm do 100 mm, 100 mm do 200 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
5,0 µm, 6,7 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-2-LW-AK-05 - średnica podziałowa.

Zakres pomiarowy:
0,2 mm do 100 mm, 100 mm do 200 mm, 200 mm do 300 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,0 µm, 1,3 µm, 1,6 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-2-LW-AK-06.

Zakres pomiarowy:
0,8 mm do 50 mm, 50 mm do 100 mm, 100 mm do 200 mm, 200 mm do 300 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,3 µm, 1,4 µm, 1,5 µm, 1,9 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-2-LW-AK-07.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 5 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,6 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK 01.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 3 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,6 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK 01.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,7 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK 01.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,2 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK 01.

Zakres pomiarowy:
10 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
2,1 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK 01.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
8,3 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK 01.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,5 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
10 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,7 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,6 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
10 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,8 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,6 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
10 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,5 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,3 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
10 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,4 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,3 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
10 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,4 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,8 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
10 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
2,1 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
5,8 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
10 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
5,9 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
14,5 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
28,9 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 100 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
57,8 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-02.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 0,6 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,6 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-03.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 1,2 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,6 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-03.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 3 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,2 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-03.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 2 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,7 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-03.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 2 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,7 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-04.

Zakres pomiarowy:
0 mm do 2 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,2 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-04.

Zakres pomiarowy:
-0,015 mm do 0,015 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,5 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-05.

Zakres pomiarowy:
-0,025 mm do 0,025 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,5 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-05.

Zakres pomiarowy:
-0,10 mm do 0,10 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,5 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-05.

Zakres pomiarowy:
-0,13 mm do 0,13 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,5 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-05.

Zakres pomiarowy:
-0,20 mm do 0,20 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0,7 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-05.

Zakres pomiarowy:
-1,0 mm do 1,0 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,0 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-05.

Zakres pomiarowy:
-1,5 mm do 1,5 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
4,1 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-05.

Zakres pomiarowy:
-4,0 mm do 4,0 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
8,2 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-3-LW-AK-05.

Zakres pomiarowy:
2 mm do 100 mm, 100 mm do 300 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
2,3 µm, 2,8 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-8-LW-AK-01.

Zakres pomiarowy:
0° do 360°.
Niepewność pomiaru dla CMC :
0°00’48’’.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-9-LW-AK-01.

Zakres pomiarowy (długość dłuższego boku):
250 mm, 400 mm, 500 mm, 630 mm, 800 mm, 1000 mm, 1200 mm, 1600 mm, 2000 mm, 2500 mm, 3000 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
1,2 µm, 1,7 µm, 1,8 µm, 2,8 µm, 2,7 µm, 3,0 µm, 3,3 µm, 3,8 µm, 4,3 µm, 4,8 µm, 5,3 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium), poza Laboratorium (w siedzibie Klienta),
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-4-LW-AK-01 - odchylenie od płaskości. Wzorcowanie przy użyciu poziomnicy różnicowej.

Zakres pomiarowy:
0,1 mm do 600 mm, 0,1 mm do 400 mm, 0,05 mm do 250 mm, do 1 mm, 0,1 mm do 600 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
4,1 µm, 4,1 µm, 4,1 µm, 2,7 µm, 4,0 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-9-LW-AK-01 - długość - szerokość - średnica - odchyłka okrągłości - odchyłki położenia. Pomiar przy użyciu współrzędnościowej maszyny pomiarowej.

Zakres pomiarowy:
0,02 mm do 25 mm, 25 mm do 125 mm.
Niepewność pomiaru dla CMC :
4,0 µm, 8,0 µm.
Miejsce wzorcowania:
Arkom-Lab Logostacjonarnie (w siedzibie Laboratorium).
Metoda pomiarowa:
Procedura wewnętrzna IW-9-LW-AK-02 w oparciu o PN-ISO 3310-2:2000, PN-ISO 3310-3:2000, PN-EN 933-3:2012. Pomiar przy użyciu współrzędnościowej maszyny pomiarowej.

© 2025 arkomlab. Wszelkie prawa zastrzeżone.